行之關(guān)注 | 專利申請宜早不宜晚，而且要避開這些雷區(qū)

 

在全球經(jīng)濟化的大背景下，知識產(chǎn)權(quán)已經(jīng)在這個時代盛行。專利作為知識產(chǎn)權(quán)的核心內(nèi)容，已逐漸成為各大企業(yè)發(fā)展競爭的必要因素。所以，企業(yè)現(xiàn)在要做的就是努力提升自己的核心競爭力，手握核心專利技術(shù)。

專利申請，宜早不宜晚。但是，專利申請的這些雷區(qū)，你可千萬別踩。

雷區(qū)一：自主研發(fā)的產(chǎn)品無需申請專利就能獲得保護

也許你會覺得有這種想法的人很傻，可現(xiàn)實中就有這么傻的人。申請專利來獲得專利權(quán)，專利權(quán)就是壟斷權(quán)，以在先申請為原則，具有創(chuàng)造性、新穎性和實用性的發(fā)明創(chuàng)造被誰先申請，專利權(quán)就授予誰。所以說，自主研發(fā)的技術(shù)，被別人申請了專利，那么這項技術(shù)就屬于申請人。即使你告申請人，依據(jù)法律你是無法追究申請人的法律責(zé)任的，這也是建議那些人不但要申請，而且要早申請自己的專利的原因。

雷區(qū)二：投入規(guī)模生產(chǎn)后再申請專利

不少人覺得自己的技術(shù)還沒得到規(guī)模性生產(chǎn)運用，就沒必要申請專利。這真的是一種大錯特錯的想法。你的發(fā)明，也許暫時只有你能掌握核心技術(shù)點。但是萬一他人竊取了你的技術(shù)或者他人也發(fā)明了跟你相似或一樣的技術(shù)，這時，他們申請了專利，那么這項技術(shù)就真的不專屬你了，到時你后悔都沒用。

雷區(qū)三：申請專利后就可以一勞永逸

一些申請人認(rèn)為專利申請成功后就能一勞永逸了，從而忽視了后續(xù)的研發(fā)工作。首先，專利是有時間期限的，到期了就不受國家法律保護了，人人可用。所以，每申請一個專利就要繼續(xù)它的技術(shù)研發(fā)，每次技術(shù)突破都要進行專利申請。這樣，自己的核心技術(shù)就可以不斷被保護，即使前期的專利到期，都過去一二十年了，新技術(shù)專利完全適應(yīng)當(dāng)下社會，原來的技術(shù)可能早就被淘汰了。

雷區(qū)四：一項成果只能申請一類專利

同一技術(shù)可以申請多種專利。因為三種類型的專利保護側(cè)重點不同，發(fā)明專利主要針對創(chuàng)造性很強的專利，產(chǎn)品工藝方法或結(jié)構(gòu)等；實用新型專利主要保護產(chǎn)品的形狀、構(gòu)造或者其結(jié)合所提出的適于實用的新的技術(shù)方案；外觀專利主要保護產(chǎn)品的形狀、圖案或者其結(jié)合以及色彩與形狀、圖案的結(jié)合所作出的富有美感并適于工業(yè)應(yīng)用的新設(shè)計。

同一產(chǎn)品，只要申請點不同，完全可以申請多個專利。申請成功后，也會從不同角度獲得授權(quán)保護。

雷區(qū)五：先發(fā)表成果再申請專利

一些發(fā)明人取得研究成果后急于發(fā)表文章或成果鑒定，而沒有想到先申請專利保護。發(fā)表文章或成果鑒定不可避免地要公開技術(shù)內(nèi)容，使專利申請失去新穎性而得不到保護，更容易被他人抄襲并進行申請，得不償失。

雷區(qū)六：申請專利沒提前進行檢索

一些申請人提交的專利申請文件都沒有做查新檢索，對技術(shù)方案的新穎性不確定，根本不知道其技術(shù)方案有沒有公開過或公開使用過。

據(jù)不完全統(tǒng)計，各國因未查閱專利文獻使研究課題失去價值，每年造成的損失數(shù)以十億計，間接損失就更多了，我國在“七五”期間，大眾企業(yè)的近萬個課題，約有三分之二都是重復(fù)研究。所以，為避免一切資源的浪費，專利檢索是申請專利時必不可少的環(huán)節(jié)，也是至關(guān)重要的一步。